真空鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)工(gong)作(zuo)原(yuan)理是(shi)膜(mo)(mo)體在(zai)高(gao)溫下(xia)蒸(zheng)發(fa)(fa)落在(zai)工(gong)件表面結(jie)晶(jing)。由于(yu)空氣對蒸(zheng)發(fa)(fa)的膜(mo)(mo)體分(fen)(fen)子會產生(sheng)阻力造(zao)成碰撞使(shi)(shi)結(jie)晶(jing)體變得粗糙無光(guang)，所以必須在(zai)高(gao)真空下(xia)才能使(shi)(shi)結(jie)晶(jing)體細密(mi)光(guang)亮，果如真空度不高(gao)結(jie)晶(jing)體就會失去(qu)光(guang)澤結(jie)合力也(ye)很(hen)差(cha)。早期真空鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)是(shi)依靠蒸(zheng)發(fa)(fa)體自然(ran)散射，結(jie)合差(cha)工(gong)效低(di)光(guang)澤差(cha)。現在(zai)加上中頻磁(ci)控濺射靶用磁(ci)控射靶將膜(mo)(mo)體的蒸(zheng)發(fa)(fa)分(fen)(fen)子在(zai)電場(chang)的作(zuo)用下(xia)加速(su)轟擊靶材，濺射出大量(liang)的靶材原(yuan)子，呈中性(xing)的靶原(yuan)子(或(huo)分(fen)(fen)子)沉積在(zai)基片上成膜(mo)(mo)，解決(jue)了過去(qu)自然(ran)蒸(zheng)發(fa)(fa)無法(fa)加工(gong)的膜(mo)(mo)體品(pin)種，如鍍(du)(du)(du)鈦鍍(du)(du)(du)鋯等等。

你中(zhong)(zhong)頻設備(bei)必須加冷卻水，原因是它(ta)的頻率高電(dian)(dian)流大。電(dian)(dian)流在導體流動時有(you)一個集膚效應，電(dian)(dian)荷(he)會聚集在電(dian)(dian)導有(you)表面積(ji)，這樣(yang)使電(dian)(dian)導發熱所以(yi)采用中(zhong)(zhong)孔管做導體中(zhong)(zhong)間加水冷卻。

(主要是(shi)圓柱靶)為什(shen)么也要用水冷卻?

磁控濺(jian)射靶在(zai)發射時(shi)會(hui)產生高(gao)溫(wen)會(hui)使射槍變形，所以它(ta)有(you)一(yi)個水套來冷卻射槍。同(tong)時(shi)還有(you)一(yi)個重要(yao)原因(yin)磁控濺(jian)射可以被認為是鍍膜技(ji)術中*突(tu)出的成就之一(yi)。它(ta)以濺(jian)射率高(gao)、基(ji)片(pian)溫(wen)升(sheng)低(di)、膜-基(ji)結合力好。

從更深(shen)層次研究(jiu)電子在非均勻電磁(ci)場中(zhong)的(de)運動規律(lv),探討(tao)了(le)磁(ci)控(kong)濺(jian)射的(de)更一般(ban)原理以及(ji)磁(ci)場的(de)橫向不均勻性及(ji)對稱(cheng)性是磁(ci)約束的(de)本質原因。磁(ci)控(kong)濺(jian)射可(ke)以被認為是鍍膜技(ji)術中(zhong)*突出的(de)成就之一。它以濺(jian)射率高(gao)、基(ji)片(pian)溫升(sheng)低、膜-基(ji)結合力(li)好、裝置性能穩(wen)定。

冷(leng)(leng)水(shui)(shui)(shui)(shui)機(ji)是一種水(shui)(shui)(shui)(shui)冷(leng)(leng)卻(que)設備(bei)，能提供恒(heng)(heng)溫(wen)、恒(heng)(heng)流(liu)、恒(heng)(heng)壓的(de)冷(leng)(leng)卻(que)水(shui)(shui)(shui)(shui)設備(bei)。其(qi)工作原理是先向機(ji)內(nei)水(shui)(shui)(shui)(shui)箱(xiang)注入一定量的(de)水(shui)(shui)(shui)(shui)，通過制冷(leng)(leng)系統(tong)將水(shui)(shui)(shui)(shui)冷(leng)(leng)卻(que)，再(zai)由(you)水(shui)(shui)(shui)(shui)泵將低(di)溫(wen)冷(leng)(leng)卻(que)水(shui)(shui)(shui)(shui)送(song)入需(xu)冷(leng)(leng)卻(que)的(de)設備(bei)，冷(leng)(leng)凍水(shui)(shui)(shui)(shui)將熱量帶走后溫(wen)度升(sheng)高再(zai)回(hui)流(liu)到(dao)水(shui)(shui)(shui)(shui)箱(xiang)，達到(dao)冷(leng)(leng)卻(que)的(de)作用。冷(leng)(leng)卻(que)水(shui)(shui)(shui)(shui)溫(wen)可根據要(yao)求自動調節，長期使用可節約用水(shui)(shui)(shui)(shui)。

冷水(shui)(shui)機能(neng)控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)真空(kong)鍍膜機的(de)溫(wen)(wen)度，以保證鍍件的(de)高質量。如果不(bu)配冷水(shui)(shui)機就不(bu)能(neng)使(shi)真空(kong)鍍膜機達到(dao)高精度、高效(xiao)率控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)溫(wen)(wen)度的(de)目的(de)，因(yin)為自然水(shui)(shui)和水(shui)(shui)塔散熱(re)都不(bu)可避(bi)免地受到(dao)自然氣溫(wen)(wen)的(de)影響，而且此方式控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)是極不(bu)穩(wen)定的(de)。

冷水機具有完全獨立的制(zhi)(zhi)冷系(xi)統，絕(jue)不會(hui)受氣溫及環境的影響，水溫在(zai)5℃～30℃范(fan)圍(wei)內調節控制(zhi)(zhi)，因(yin)而可以達(da)到高精度、高效率控制(zhi)(zhi)溫度的目的，冷水機設(she)有獨立的水循環系(xi)統。